真空燒結(jié)爐優(yōu)點(diǎn)介紹 　　真空燒結(jié)爐即真空技術(shù)與熱處理兩個(gè)***相結(jié)合的綜合技術(shù)，是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的。我國(guó)將真空劃分為低、中、高和超高真空。 　　目前大多數(shù)真空燒結(jié)爐的工作真空度在1.33—1.33×10ˉ3Pa。以下是優(yōu)點(diǎn)介紹： 　　(1)真空負(fù)壓運(yùn)行，真正不會(huì)爆炸的鍋爐。 　　(2)鍋爐受力鋼板高溫區(qū)、高壓區(qū)的成功分離，使鍋爐使用壽命延長(zhǎng)2-3倍，設(shè)計(jì)使用壽命比較長(zhǎng)。 　　(3)真空燒結(jié)爐整體設(shè)計(jì)科學(xué)、合理、緊湊，節(jié)約占地面積50-70%。 　　(4)在鍋爐本體內(nèi)進(jìn)行熱交換，整機(jī)效率高達(dá)91%以上，啟動(dòng)后2-3分鐘內(nèi)可提供70-80℃熱水，大大縮短了預(yù)熱期和減小能源浪費(fèi)。 　　(5)真空燒結(jié)爐擁有內(nèi)置不銹鋼材質(zhì)換熱器，對(duì)水質(zhì)無任何污染。 　　(6)真空甩帶爐效率高、供熱快、換熱好。

　　氣相沉積爐的特點(diǎn)是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳?xì)錃怏w為碳源的復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應(yīng)，例如，金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸?，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等無機(jī)材料的方法。這種技術(shù)開始是作為涂層的手段而開發(fā)的，但目前，不只應(yīng)用于耐熱物質(zhì)的涂層，而且應(yīng)用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導(dǎo)體薄膜等，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。 　　設(shè)備特點(diǎn)在于：(1)在低溫下合成高熔點(diǎn)物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進(jìn)行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節(jié)能方面做出了貢獻(xiàn)，作為一種新技術(shù)是大有前途的。 　　下面小編詳細(xì)列舉幾條爐子的特點(diǎn)，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達(dá)2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時(shí)采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對(duì)炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效處理。