亚洲av午夜精品一区二区三区,国产AV熟女一区二区三区,国产毛片精品一区二区色欲黄A片,强行破瓜稚嫩粗暴顶弄哭喊

行業(yè)動態(tài)

聚焦行業(yè)動態(tài),洞悉行業(yè)發(fā)展

真空甩帶爐的工藝性能
發(fā)布時間:2021-09-09   瀏覽:2406次

  真空甩帶爐的工藝性能

  真空甩帶爐主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護條件下的感應熔煉及快冷甩帶成型;適合各種材料的非晶、微晶薄帶或薄片的制備。

  實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料。采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣,可用于制備大塊非晶材料。真空甩帶爐主要由真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng)、爐體支架、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成。

真空甩帶爐

  真空甩帶爐采用臥式爐體,側部開門結構,進出料方便,爐體結構緊湊,占地空間較小,采用高頻電源加熱,主要供大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉澆鑄處理,也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。還可進行非晶甩帶,噴鑄和壓鑄處理,一臺設備多種功能。

  此外,真空甩帶爐是在抽完真空并充氫氣的保護狀態(tài)下,利用中頻感應的加熱原理,使處于線圈內的鎢坩堝產生了高溫,再通過熱輻射傳導到工作上,適用于科研、及軍工單位對難熔合金如鎢、鉬以及其它合金的粉末成型燒結。在真空保護的條件下,利用中頻感應加熱的原理使硬質合金刀頭及各種金屬粉末壓制體實現(xiàn)燒結的成套設備,是為硬質合金、金屬鏑、陶瓷材料的工業(yè)行業(yè)而生產設計的。

  洛陽八佳電氣科技股份有限公司主要研發(fā)、生產真空熔煉爐、真空燒結爐、熔鹽電解爐等燒結設備,公司高度重視技術創(chuàng)新和高科技產品的開發(fā),每年將銷售收入的10%以上投入研發(fā)。在人才引進、外出進修、購置先進生產設備中也不惜投入大量資金。目前,企業(yè)擁有20多項發(fā)明和實用新型專利技術。真誠歡迎新老客戶蒞臨公司指導合作、洽談業(yè)務!

免責聲明:本站部分圖片和文字來源于網(wǎng)絡收集整理,僅供學習交流,版權歸原作者所有,并不代表我站觀點。本站將不承擔任何法律責任,如果有侵犯到您的權利,請及時聯(lián)系我們刪除。

相關推薦

29 December 2022
真空燒結爐容易漏氣的點及檢測方法

真空燒結爐容易漏氣的點及檢測方法

  真空燒結爐容易漏氣的點及檢測方法  真空燒結爐爐內的氣氛會直接影響產品的表面處理效果,爐內的氣氛由真空爐的氣密性決定,如果要保證工件質量,先要保持真空爐的氣密性良好,但真空燒結爐的氣密性檢查難點在于爐體面積大、管道復雜,并且容易泄漏的部位比較多,因此對真空燒結爐的氣密性檢查要形成制度化。下面八佳電氣就介紹真空燒結爐容易漏氣的點及檢測方法:  一、真空燒結爐氣密性檢查的重要部位:  1、檢修時替換設備的部位。檢修時動過的爐體和管道部分,都要作為檢查的關鍵部位?! ?、開啟過的頂蓋、底蓋、穿帶孔、檢修門?! ?、進口密封輥縫?! ?、爐殼和循環(huán)管道上的膨脹節(jié),爐輥法蘭、換熱器法蘭、各外表法蘭和焊口等?! ?、水冷高溫計、攝像頭、水冷換熱器等。  6、分析儀取樣管接頭等。  二、正壓部分的檢查  正常生產過程中,退火爐要保持在150-300Pa的微正壓?! ?、泄露的判別。查詢在線氧氣ppm分析儀測量數(shù)據(jù),當某段殘氧量忽然顯著升高時,就可能是爐殼或循環(huán)管道發(fā)生泄露。  2、泄露的點檢查方法和東西。東西室氫氣探測儀。方法是確保爐內氫氣在3%以上,用便攜式氫氣探測儀檢查通過承認漏氣爐段的氣密性,重要部位是頂檢修焊縫等。當檢查到漏點部位時,氫氣探測儀會發(fā)生報警。  三、負壓部分的檢查  循環(huán)風機的吸入端為負壓,假定負壓部位發(fā)生泄露,空氣就會被吸入爐內?! ?、泄露的判別。通過查詢在線分析儀測量數(shù)據(jù)改動,就能夠判別這臺風機是否有泄露。  2、泄露的點檢查方法和東西。負壓泄露的點的檢查能夠通過上述方法,將負壓變成正壓,然后運用氫氣探測器檢查,也能夠運用專門用于負壓檢漏設備——氦氣檢漏儀進行檢查?! ∷?、泄露的點要如何處理  退火爐總是處于作業(yè)情況,關于一些漏點能夠采用打高溫密封膠等方法做暫時處理,要等有停爐的時機再做完全處理。  對開裂部位進行補焊;現(xiàn)已老化或損壞的密封墊、圈要替換;替換出現(xiàn)縫隙的部件例如膨脹節(jié)等;對松動的螺栓進行緊固;涂改高溫密封膠。

12 April 2021
氣相沉積爐的特點是什么

氣相沉積爐的特點是什么

  氣相沉積爐的特點是什么   氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應,例如,金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發(fā)的,但目前,不只應用于耐熱物質的涂層,而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等,是一個頗具特征的技術領域。   設備特點在于:(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層,而且可以在粉體表面涂層,特別是在低溫下可以合成高熔點物質,在節(jié)能方面做出了貢獻,作為一種新技術是大有前途的。   下面小編詳細列舉幾條爐子的特點,以便大家能更好的了解爐子的性能。   氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達2.5m×2m×4.5m,能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求;并且,采用多溫區(qū)獨立控溫,溫度均勻性好;   與此同時采用特殊結構沉積室,密封效果好,抗污染能力強;   氣相沉積爐采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;   氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。